垂直磁控濺射系列

                            垂直濺射配置可以最小化顆粒污染,適合靶材產(chǎn)生高顆粒的工藝開發(fā)及任何生產(chǎn)環(huán)境。

                            具有高產(chǎn)能、高均勻性及工藝靈活性。 

                            應(yīng)用于航天、微電子、傳感器、汽車、光學(xué)及能源等領(lǐng)域。